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硅烷在高科技中被廣泛應用并變得越來越重要，與其特性有關，也與現代高科技的特殊要求有關。通過熱分解或與其他氣體發生化學反應，硅烷可以制備單晶硅、多晶硅、非晶硅、金屬硅化物、氮化硅、碳化硅、氧化硅等一系列含硅物質。硅烷可以實現最高的純度、最精細的控制(達到原子大小)和最靈活的化學反應。因此，可以根據各種需要將各種含硅材料制成復雜精細的結構，這是具有各種特殊功能的現代材料和器件所需要的基本條件。

硅烷的另一個應用是非晶半導體非晶硅。與單晶半導體材料相比，非晶硅的特點是容易形成極薄(約10nm厚)的大面積器件。基底可以是玻璃、不銹鋼甚至塑料，表面可以是平面或曲面，因此可以制成各種性能優異的器件。

硅烷已成為半導體微電子技術中最重要的特種氣體，用于制備各種微電子薄膜，包括單晶薄膜、微晶、多晶、氧化硅、氮化硅、金屬硅化物等。硅烷的微電子應用仍在向縱深發展:低溫外延、選擇性外延和異質外延。不僅適用于硅器件和硅集成電路，也適用于化合物半導體器件(砷化鎵、碳化硅等。).它還可以用于超晶格量子阱材料的制備。可以說，幾乎所有現代先進的集成電路生產線都需要硅烷。硅烷的純度對器件性能和良率影響很大，更高檔的器件需要更高純度的硅烷(包括二硅烷和丙基硅烷)。

硅烷作為含硅膜和涂層的應用已經從傳統的微電子工業擴展到鋼鐵、機械、化工、光學等各個領域。含硅涂層可以將普通鋼材的高溫抗氧化性提高到10萬倍以上，還可以大大提高其他金屬的高溫化學穩定性，明顯增強內燃機葉片的耐腐蝕性，大大提高各種材料與零件之間的結合強度，延長汽車發動機零件的使用壽命，改變玻璃的反射和透射性能，從而達到顯著的節能和裝飾效果。在浮法玻璃生產過程中，用硅烷在玻璃表面涂上一層反光層，附著力強，在陽光長期照射下不褪色，透光率僅為普通玻璃的1/3。氮化硅涂層大面積多晶硅電池(BSNSC)實現了15.7%的高效率。利用硅烷氣相沉積技術制作的各種含硅膜在高科技中的應用日益增多。

硅烷的另一個潛在應用是制造高性能陶瓷發動機零件，特別是使用硅烷制造硅化物(Si3N4、SiC等)的技術。)微粉越來越受關注。美國、日本和其他國家正在花費數十億美元開發由硅、氮化硅和碳化硅微粉制成的耐高溫、高強度和高化學穩定性的陶瓷。硅烷氣相反應制備的微粉純度最高，顆粒細小均勻，可大大提高陶瓷零件的性能。它的應用領域非常廣泛。比如汽車發動機的閥門、渦輪增壓器的轉子已經投入實際使用，高速軸承、高性能切削刀具已經商品化。用于內燃機時，可使工作溫度高達1400℃，大大提高熱機效率，適用于各種燃料，延長使用壽命。此外，它還可以用作火箭的隔熱瓦和隱身保護層。